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[산업지식퀴즈] 반도체 포토 공정에 쓰이는 광원은?

불화아르곤보다 파장 짧아···초미세 공정 구현

[산업지식퀴즈] 반도체 포토 공정에 쓰이는 광원은? - 산업종합저널 전자
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로봇, 스마트폰, 노트북 등 다양한 제품에 반도체가 탑재되고 있습니다. 반도체를 만들기 위해서는 웨이퍼(Wafer) 제조, 산화 공정, 포토 공정, 식각 공정 등 8대 공정을 거쳐야 하는데요.

그중 반도체 제조의 핵심인 포토 공정은 레이저 광원을 웨이퍼에 투사하는 노광(Photolithography) 작업을 진행합니다. 이 과정에서 감광액으로 코팅된 웨이퍼에 미세하고 복잡한 회로를 새겨 넣기 위해 특정 광원을 이용한 장비가 필요한데요.

기존에 적용했던 불화아르곤(ArF)보다 파장이 짧아 초미세 공정을 구현할 수 있는 이것은 무엇일까요?

1. 극자외선 2. 원적외선 3. 감마선

정답은 1. 극자외선(EUV)입니다.
극자외선은 파장의 범위가 약 124nm에서 10nm까지인 전자기파로, 불화아르곤의 10분의 1 미만인 파장을 갖고 있어 반도체 기판의 회로를 그리는 공정에서 활용되고 있습니다.
박재영 기자 기자 프로필
박재영 기자
brian@industryjournal.co.kr


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