
실리콘 도입형 저분자 정공전달층 설계 및 비등방성 식각 기반 초고해상도 포토리소그래피 패턴 개발
초고해상도 마이크로디스플레이의 난제로 꼽혀온 픽셀 간섭 문제가 국내 연구진의 기술 개발로 해결됐다. 이 기술은 디스플레이 해상도와 화질을 동시에 개선할 수 있는 돌파구로 평가된다.
한국연구재단은 한양대학교 김도환 교수, 연세대학교 조정호 교수, 서강대학교 강문성 교수가 참여한 연구팀이 신호 간섭을 억제하는 정공전달층과 초미세 패턴 공정을 개발했다고 밝혔다. 10,000ppi 이상의 고해상도를 구현하면서도 픽셀 간 간섭 없이 선명한 화질을 제공할 수 있는 OLED 디스플레이를 완성했다.
확장현실(XR) 기술에 대한 수요가 증가하며 고화질 디스플레이의 중요성이 커지고 있다. 하지만 디스플레이 해상도가 높아질수록 픽셀 간 거리가 좁아지면서 전기적 신호 간섭으로 인해 색순도와 색영역이 저하되는 문제가 발생했다. 이러한 한계를 극복하기 위해 연구팀은 실리콘 기반의 비등방성 식각 공정을 활용해 정밀한 패턴 구현이 가능한 저분자 정공전달층을 설계했다. 이 소재는 전하 전달 속도와 에너지 레벨을 최적화해 OLED 발광 효율도 향상시켰다.

실리콘 도입형 정공전달층 패턴 유무에 따른 픽셀 간 신호 간섭
연구진은 실리콘 결합형 정공전달층을 사용한 OLED 소자가 해상도 증가에도 불구하고 누설전류를 줄여 신호 간섭을 방지한다는 점을 실험적으로 입증했다. 이를 통해 디스플레이 해상도가 높아지더라도 안정적인 화질을 유지할 수 있음을 보여줬다.
이번 연구는 기존 유기반도체 소재의 한계를 극복하고, 초고해상도 디스플레이 구현을 위한 새로운 기술적 대안을 제시했다는 점에서 의의가 크다. 특히, 이 기술은 메타버스와 초실감형 콘텐츠 개발뿐만 아니라 디스플레이 산업의 기술 자립에도 기여할 가능성이 높다.
해당 연구는 과학기술정보통신부와 한국연구재단의 지원으로 수행됐으며, 성과는 국제학술지 ‘네이처 일렉트로닉스(Nature Electronics)’에 게재됐다.