바스프, 독일 루트비히스하펜에 반도체용 황산 생산시설 증설
유럽 첨단 칩 수요 대응…초고순도 화학물질 공급망 강화
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글로벌 화학기업 바스프(BASF)가 독일 루트비히스하펜에 반도체용 황산(H₂SO₄) 생산시설을 증설한다. 첨단 반도체 제조에 필수적인 초고순도 화학물질 수요 증가에 대응하기 위한 조치로, 2027년 가동을 목표로 수천만 유로 규모의 투자가 이뤄진다.
새 설비는 바스프 본사가 위치한 루트비히스하펜 통합 화학단지 내에 들어서며, 고순도 황산을 안정적이고 일관되게 공급할 수 있는 품질관리 체계를 갖춘다. 특히 주요 반도체 고객사의 생산 확대 움직임과 맞물려, 유럽 내 칩 생산 수요 급증에 적극 대응한다는 전략이다.
최근 유럽에서는 자동차, 이동통신, 인공지능(AI) 분야를 중심으로 반도체 칩 생산 시설의 신설과 확장이 본격화되고 있다. 이로 인해 반도체 공정에 필수적인 고품질 화학물질에 대한 수요도 빠르게 증가하고 있다. 바스프는 긴밀한 파트너십과 장기 공급계약을 기반으로 반도체 소재 공급망 전반에 걸친 투자를 확대하고 있다.
바스프는 이번 증설을 통해 고객사의 생산 거점 인근에서 직접 고순도 화학물질을 공급함으로써 리드타임을 최소화하고, 시장 대응 속도를 높인다는 방침이다.
아눕 코타리 바스프 이사회 멤버(디스퍼전 및 수지 부문 총괄)는 “바스프가 유럽 반도체 산업의 전략적 파트너로 선택받은 것은 매우 뜻깊다”며 “루트비히스하펜의 통합 생산 시스템을 활용해 유럽의 첨단 반도체 산업 성장을 지원하겠다”고 밝혔다.
한편 바스프는 세정, 식각, 금속 증착, 화학적 기계 평탄화(CMP) 등 반도체 생산 공정 전반에 사용되는 고순도 단일·벌크 화학물질 및 특수 화학제형을 폭넓게 공급하고 있다.
기사 정정 / 반론
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